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OLYMPUS奧林巴斯工業(yè)檢測(cè) BX51 顯微鏡

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

OLYMPUS奧林巴斯工業(yè)檢測(cè) BX51 顯微鏡其出色的成像質(zhì)量和高精度機(jī)械設(shè)計(jì)能夠滿足精密檢測(cè)的需求,特別適合工業(yè)實(shí)驗(yàn)室、半導(dǎo)體行業(yè)和科研單位使用。購(gòu)買(mǎi)BX51時(shí)可根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的配置,并通過(guò)合理的安裝和調(diào)試,確保顯微鏡的最佳使用效果

更新時(shí)間:2024-10-13
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奧林巴斯BX51工業(yè)檢測(cè)顯微鏡是一款廣泛應(yīng)用于高精度工業(yè)檢測(cè)、芯片檢查和材料切片分析的專業(yè)顯微鏡。它以出色的光學(xué)系統(tǒng)、模塊化設(shè)計(jì)和多功能的觀察模式著稱,適用于半導(dǎo)體行業(yè)、材料科學(xué)、金屬材料檢測(cè)等領(lǐng)域。以下是關(guān)于BX51顯微鏡的詳細(xì)介紹,包括其特點(diǎn)、主要參數(shù)、使用效果、應(yīng)用場(chǎng)景、貨號(hào)和安裝流程。

一、特點(diǎn)

  1. UIS2光學(xué)系統(tǒng):奧林巴斯BX51配備了UIS2(無(wú)限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)),確保了高分辨率和無(wú)像差的清晰圖像,非常適合精密檢測(cè)需求,如芯片表面微小缺陷的分析和材料切片結(jié)構(gòu)的詳細(xì)觀察。

  2. 多種觀察模式:BX51支持明場(chǎng)、暗場(chǎng)、相差、偏光、微分干涉(DIC)等多種觀察模式,可根據(jù)樣本類型和檢測(cè)需求靈活切換,適合不同的工業(yè)應(yīng)用。

  3. 高靈活性和模塊化設(shè)計(jì):BX51具有高度的模塊化設(shè)計(jì),用戶可以根據(jù)具體需求自由更換物鏡、濾光片、光源等組件,適合定制化的檢測(cè)任務(wù)。

  4. 熒光檢測(cè)能力:BX51可以配備熒光觀察功能,用于半導(dǎo)體材料和特種材料的特性分析,尤其適用于熒光標(biāo)記實(shí)驗(yàn)和高靈敏度檢測(cè)。

  5. 高精度機(jī)械結(jié)構(gòu):顯微鏡的載物臺(tái)和調(diào)焦系統(tǒng)經(jīng)過(guò)精密設(shè)計(jì),操作順暢,能夠?qū)崿F(xiàn)微米級(jí)的樣本定位和調(diào)整,確保在工業(yè)檢測(cè)中的高精度和重復(fù)性。

  6. 穩(wěn)固和耐用:顯微鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)堅(jiān)固,適合長(zhǎng)時(shí)間使用,尤其是在高負(fù)荷的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中依然保持高可靠性。

二、OLYMPUS奧林巴斯工業(yè)檢測(cè) BX51 顯微鏡主要參數(shù)

  1. 光學(xué)系統(tǒng):UIS2 無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)

  2. 物鏡轉(zhuǎn)盤(pán):6孔物鏡轉(zhuǎn)盤(pán),可配置多種物鏡

  3. 物鏡類型:平場(chǎng)消色差物鏡、超長(zhǎng)工作距離物鏡

  4. 物鏡倍率范圍:4x、10x、20x、40x、100x油鏡

  5. 目鏡:10倍寬視野目鏡(F.N. 22),可選15倍、20倍目鏡

  6. 光源類型:12V 100W鹵素?zé)艋騆ED光源

  7. 熒光光源:100W汞燈或氙燈(用于熒光觀察)

  8. 聚光鏡:阿貝聚光鏡,NA 1.25,帶可調(diào)光圈

  9. 載物臺(tái):機(jī)械移動(dòng)載物臺(tái)或電動(dòng)載物臺(tái),適合大樣本的檢測(cè)

  10. 載物臺(tái)移動(dòng)范圍:X軸:76mm,Y軸:50mm

  11. 調(diào)焦系統(tǒng):粗調(diào)和微調(diào)同軸,微調(diào)精度1μm

  12. 光路切換:雙通道光路,適合快速切換熒光和明場(chǎng)觀察

  13. 數(shù)碼成像接口:支持CCD/CMOS相機(jī),標(biāo)準(zhǔn)C接口

  14. 熒光濾光片:支持多色熒光濾光片(DAPI、FITC、TRITC等)

  15. 冷卻系統(tǒng):熒光光源配備風(fēng)扇冷卻,保證長(zhǎng)時(shí)間使用的穩(wěn)定性

  16. 電源要求:AC 100-240V,50/60Hz

  17. 暗場(chǎng)觀察:支持暗場(chǎng)觀察,適用于表面檢測(cè)

  18. 偏光觀察:支持偏光觀察,適合晶體結(jié)構(gòu)和材料內(nèi)部分析

  19. DIC微分干涉:支持微分干涉,用于觀察透明或低對(duì)比度樣本的立體結(jié)構(gòu)

  20. 鏡筒傾斜角度:45°傾斜設(shè)計(jì),符合人體工程學(xué),適合長(zhǎng)時(shí)間操作

  21. 物鏡校正:無(wú)限遠(yuǎn)校正物鏡,減少色差和球差

  22. 擴(kuò)展性:可搭載多種擴(kuò)展設(shè)備,包括激光共聚焦成像系統(tǒng)、自動(dòng)聚焦系統(tǒng)等

  23. 外形尺寸:約210mm x 290mm x 510mm

  24. 顯微鏡重量:約14kg

  25. 鏡筒類型:雙目鏡筒或三目鏡筒(用于成像系統(tǒng)連接)

  26. 數(shù)字成像系統(tǒng):支持連接數(shù)碼成像設(shè)備,適用于工業(yè)檢測(cè)中的圖像記錄和分析

  27. 溫度適應(yīng)性:可在0°C - 40°C范圍內(nèi)正常工作,適合工業(yè)環(huán)境

  28. 濕度適應(yīng)性:相對(duì)濕度30%-85%

  29. 光強(qiáng)調(diào)節(jié):光源亮度連續(xù)可調(diào),適應(yīng)不同檢測(cè)需求

  30. 鏡頭接口:標(biāo)準(zhǔn)UIS2物鏡接口,兼容奧林巴斯多種物鏡

三、OLYMPUS奧林巴斯工業(yè)檢測(cè) BX51 顯微鏡使用效果

  1. 芯片檢測(cè):在集成電路、半導(dǎo)體和芯片檢測(cè)中,BX51的高分辨率光學(xué)系統(tǒng)和多種觀察模式能夠精準(zhǔn)地檢測(cè)芯片表面微小的缺陷、裂痕和污染物。明場(chǎng)觀察用于表面檢測(cè),而暗場(chǎng)和熒光觀察則能夠突出微小的表面缺陷,提供清晰、準(zhǔn)確的檢測(cè)結(jié)果。

  2. 切片分析:在金屬、晶體材料和其他工業(yè)材料的切片分析中,BX51能夠通過(guò)偏光、DIC等模式深入分析材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)、晶體界面和應(yīng)力分布。尤其在金屬和半導(dǎo)體材料的切片分析中,BX51的成像能力能夠幫助研究人員識(shí)別材料的微觀特性。

  3. 工業(yè)材料檢測(cè):BX51在工業(yè)材料的表面檢測(cè)中,能夠使用明場(chǎng)、暗場(chǎng)和熒光模式清晰呈現(xiàn)表面的細(xì)節(jié),包括劃痕、裂紋和雜質(zhì)。對(duì)于精密部件的質(zhì)量控制,它可以幫助檢測(cè)出潛在的缺陷,提高生產(chǎn)質(zhì)量。

四、應(yīng)用場(chǎng)景

  1. 半導(dǎo)體行業(yè):BX51顯微鏡在芯片、集成電路和晶片檢測(cè)中的應(yīng)用廣泛,能夠檢測(cè)芯片表面的缺陷、裂紋、異物等,確保半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量。

  2. 材料科學(xué)與工程:BX51可以用于材料科學(xué)中的金屬、陶瓷、塑料等樣品的微觀結(jié)構(gòu)分析,幫助科研人員研究材料的晶體結(jié)構(gòu)、缺陷和應(yīng)力分布。

  3. 工業(yè)檢測(cè)和質(zhì)控:BX51在工業(yè)檢測(cè)領(lǐng)域中的應(yīng)用包括金屬表面檢測(cè)、焊接質(zhì)量檢查、工業(yè)材料的失效分析等。

  4. 生物材料分析:通過(guò)熒光和偏光觀察,BX51也適用于生物材料和聚合物材料的檢測(cè)和分析。

五、貨號(hào)

根據(jù)不同配置和功能需求,BX51顯微鏡有多種貨號(hào)可供選擇:

  • BX51:標(biāo)準(zhǔn)款,用于明場(chǎng)、暗場(chǎng)和相差觀察。

  • BX51F:配有熒光觀察功能的型號(hào),適用于熒光成像實(shí)驗(yàn)和高靈敏度檢測(cè)。

  • BX51M:特別適合金屬材料分析的型號(hào),具有偏光和DIC功能。

  • BX51TR:帶有三目鏡筒和數(shù)碼成像接口,適用于圖像記錄和分析。

六、安裝流程

  1. 檢查配件:開(kāi)箱后,確保所有配件齊全,包括顯微鏡主體、物鏡、目鏡、光源、電源線、濾光片、載物臺(tái)等。

  2. 安裝顯微鏡主體:將顯微鏡主體穩(wěn)固地放置在工作臺(tái)上,確保其位置平穩(wěn),并留出足夠的操作空間。

  3. 安裝物鏡和目鏡:根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求,將物鏡(如4x、10x、40x、100x油鏡)安裝到物鏡轉(zhuǎn)盤(pán)上,并將10倍寬視野目鏡安裝到目鏡筒中。

  4. 連接光源:將光源(鹵素?zé)艋騆ED光源)連接到顯微鏡,并插上電源,確保光源能夠正常工作。

  5. 安裝濾光片(如適用):如果需要進(jìn)行熒光觀察,安裝熒光濾光片到濾光片架上,并調(diào)節(jié)到正確的位置。

  6. 載物臺(tái)調(diào)整:根據(jù)樣品的大小,調(diào)整載物臺(tái)位置,確保樣品可以精確移動(dòng)。機(jī)械或電動(dòng)載物臺(tái)應(yīng)進(jìn)行測(cè)試,確保其移動(dòng)平穩(wěn)。

  7. 聚焦調(diào)節(jié):使用粗調(diào)和微調(diào)系統(tǒng),調(diào)節(jié)顯微鏡的聚焦系統(tǒng),確保樣本在不同物鏡下都能清晰呈現(xiàn)。

  8. 數(shù)碼成像(可選):如果需要連接數(shù)碼相機(jī),將相機(jī)連接到顯微鏡的成像接口,并測(cè)試圖像傳輸是否順暢。

  9. 系統(tǒng)調(diào)試:最后,進(jìn)行全系統(tǒng)測(cè)試,包括光源亮度調(diào)節(jié)、觀察模式切換和成像系統(tǒng)的測(cè)試,確保顯微鏡各項(xiàng)功能正常運(yùn)行。

七、總結(jié)

奧林巴斯BX51工業(yè)檢測(cè)顯微鏡憑借其高分辨率的光學(xué)系統(tǒng)、多種觀察模式和強(qiáng)大的擴(kuò)展性,成為芯片檢測(cè)、材料分析和工業(yè)檢測(cè)中的理想工具。其出色的成像質(zhì)量和高精度機(jī)械設(shè)計(jì)能夠滿足精密檢測(cè)的需求,特別適合工業(yè)實(shí)驗(yàn)室、半導(dǎo)體行業(yè)和科研單位使用。購(gòu)買(mǎi)BX51時(shí)可根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的配置,并通過(guò)合理的安裝和調(diào)試,確保顯微鏡的最佳使用效果。


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